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    还有更加恐怖的光源波在十万分之五纳米的ipl技术，这些技术，估计要等到击败三人之后，才有可能看到了。

    咳咳，言归正传，其实在技术上还有一个比euv更加梦幻的技术，叫接近式x光技术，这个技术可以将光源从135纳米，一气提升到一纳米的平，这是显然是一个更加疯狂的光刻机技术。

制造来的芯片，最早是现在同等级芯片的价格的三倍以上，如果投放到市场上，他未来所有级芯片的旗舰手机的起步价格，就最少要提2000元人民币左右了。

    但这依然是目前最有可能成功的技术。

    不像中国，来，大家正面。

    本来作为国的小老弟，以前的日本或许还有机会加到这样的专利联盟手中，但是自从园广场协议一签，所有日本人都知国是打定了主意要打压日本的半导行业，他们是绝不可能允许日本企业到euv技术联盟之中的，否则园广场协议就白签了。

    这里就不得不说一句，其实国是一家，非常公平和公正的国家，对于能够威胁到自己技术优势的对手，他们会立刻打压。

    只不过，倪光南曾经非常形象的形容过这个技术阵营，说这是一个浪漫主义的技术阵营，大家就当科幻小说来读就好了。

    比如在90年代后期，日本的半导行业几乎已经要将国的半导行业给彻底撕碎了，他们占据了90％以上的市场。

    这个技术难度极不说，关键是几乎所有的专利和门槛都掌握在国人的手里面，分布在英特尔，ad，托罗拉和国能源这些单位之中，尼康手里面几乎没有这方面任何的技术专利。

    其实后面还有更加科幻的技术，比如光源波在千分之四纳米的ebdw技术。

    同样的，如果是自己的狗威胁到了自己的技术优势，那也是一样要打压的。

    结果园广场协议一签，日本半导行业瞬间崩溃，等到了2020年，日本的半导行业连苟延传统的资格都没有了，直接就变成了一尸，而日本政府却只能对国唯唯诺诺，连一句反对的声音都听不到。

    euv技术，这是技术前景最为光明的，但也是最困难的技术，因为这个技术要从直接改革光源手，将目前的光刻机光源改革成为紫光，直接从光源上，把50纳米的极限提升到135纳米的极限，提升幅度可谓大，绝对是市场前景最为广阔的技术。

    而这也是目前整个日本光刻机行业倾力投的技术，他们梦想着一旦等这个技术开结果，那就算是euv再怎么排斥日本也是抓瞎，因为大家本就不在一个平面上面了。