采用全新的芯片制作材料——碳纳米晶。它与硅纳米晶一样，都能自行生，密度和积却比硅晶小得多，能使我们无限度地保持尔定律。

    “更为重要的是，在碳纳米晶的生过程中，我会调一化学药剂，对那些生错误的晶行侵蚀和销毁，并促其他晶地正确生，并最终在试里得到一张完整的芯片。这个过程叫‘建设破坏’，它的工作效率远远超过目前最尖端的光刻机。”

    宣冥和顾二少听得一脸懵。

    懂行的技术人员却都骇然变。

    讲到这里就不得不提一提光刻机的运行机制。它相当于一台单反照相机，能把复杂至极的芯片设计图复刻在小而薄的硅芯片上。一张硅芯片往往会存在一百亿条纳米晶电路，而这么多晶的正确蚀刻都有赖于光刻机的确计算。

    它的工作难度到底有多大？

    打一个比方，两架大飞机从起飞到降落，始终齐并，其中一架飞机伸一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字。这些字有多少？不是一个两个，而是几十亿、上百亿，一个笔画都不能刻错，要不然就得从来过！

    所以HL人才说，哪怕把光刻机的设计图白送给华国人，华国人都造不来。

    但是，庄理提的这“建设破坏”概念，利用的却不是理蚀刻技术，而是化学侵蚀技术。

    有腐蚀的化学分能代替光源能量，行密地作。它也不需要把几十亿上百亿的纳米晶全对接正确，只需把自我生错误的晶毁掉就可以。

    这个工作难度又是多大呢？

    打个比方，假如你在一块田里秧，有些秧苗病歪歪的，本不活。这时候你无需考虑怎么去抢救秧苗，随手把它们往田坎上一扔也就完事了。

    用光刻机制作芯片，整个工作程不能现一丝一毫错误，否则就得推翻重来，这造成了硅基片的大量浪费。

    而化学制作的芯片，错了不要，毁掉对接不正确的晶，再促发别的晶继续生就可以。它最大程度地运用了碳纳米晶能自我生的特，不会造成原材料的浪费，制作成本比硅芯片节省得多。

    庄理指了指幻灯片，笃定：“有了这项技术，在不远的将来，我们通过化学试就能制造大批量的碳纳米芯片，而且资金投比光刻机少得多，很快就能建成大规模的工厂，在全国范围普及。米国的芯片封堵计划必将宣告破产。”

    众人仔细推演幻灯片上的化学方程式和芯片制造原理，血里崩腾着的血。